氧化銅適用于垂直連續(xù)電鍍和不溶性陽極下電鍍，具有純度高、氯離子低、沉積涂層優(yōu)良等優(yōu)點。廣泛應用于高中方面電鍍、填孔電鍍、深盲孔電鍍等PCB產品領域，符合RoHS標準。

電鍍氧化銅作為連續(xù)的銅源；半導體材料；作為催化、超導、陶瓷等領域的重要無機材料，應用范圍廣泛；用作催化劑和催化劑載體和電極活性材料；用作玻璃和瓷器著色劑、光學玻璃拋光劑、有機合成催化劑、石油脫硫劑、加氫劑；制造人造寶石和其他氧化銅；用于制造人造絲，以及氣體分析和有機化合物的測定；也可用作火箭推進劑的燃燒速率催化劑。

一種高純低氯電鍍氧化銅的制備方法，該方法以銅、液氨、高純二氧化碳為原料，先制備濃氨水，再將高純二氧化碳通入濃氨水中，通過控制碳化程度制備碳化氨水，這種碳化氨水在一定氣壓下與銅反應，得到銅氨絡合物溶液，再經加熱、蒸氨、分離、洗滌、干燥、篩分，制得重質高純堿式碳酸銅、重堿式碳酸。

然后將銅加熱煅燒分解，得到高純度、低氯的電鍍級氧化銅。這個以二氧化碳為原料，避免了傳統(tǒng)堿式碳酸銅生產方法所用原料中帶入重金屬離子、氯離子等雜質的問題。提高了反應速度，縮短了生產周期，大大提高了生產效率，產品雜質含量低，純度高，活性高，產品應用更廣泛。同時，該方法收率高、低能耗、低污染、低成本。